Το Etnews ανέφερε ότι η Samsung Electronics και η SK Hynix έχουν παραγγείλει μια συσκευή έκθεσης στην υπεριώδη ακτινοβολία High-NA (EUV)

Το Etnews ανέφερε ότι η Samsung Electronics και η SK Hynix έχουν παραγγείλει μια συσκευή έκθεσης στην υπεριώδη ακτινοβολία High-NA (EUV) για την επόμενη γενιά εξοπλισμού ημιαγωγών από τον γίγαντα λιθογραφίας ASML. Μετά την TSMC και την Intel, οι κορεάτες κατασκευαστές ημιαγωγών ετοιμάζονται επίσης να εισαγάγουν εξοπλισμό ικανό για τη διαδικασία των 2nm. Ο ανταγωνισμός για τις πιο προηγμένες διαδικασίες αναμένεται να ενταθεί.

Το IT House κατανοεί ότι ο εξοπλισμός High-NA EUV είναι πιο ακριβός από τον εξοπλισμό EUV που χρησιμοποιείται αυτήν τη στιγμή, αλλά επιτρέπει μια εφάπαξ εφαρμογή της εξαιρετικά λεπτής διαδικασίας (ενιαία διαμόρφωση), η οποία μπορεί να αυξήσει σημαντικά την παραγωγικότητα. Όσον αφορά τη Samsung Electronics, είναι απαραίτητο να ασφαλιστούν συσκευές High-NA EUV για μαζική παραγωγή 2 nm πριν από τη μαζική παραγωγή 3 nm. Ο υπάρχων εξοπλισμός EUV εκτιμάται ότι κοστίζει μεταξύ 200 δισεκατομμυρίων γουόν (περίπου 1,008 δισεκατομμύρια γιουάν) και 300 δισεκατομμυρίων γουόν (περίπου 1,512 δισεκατομμύρια γιουάν), ενώ ο εξοπλισμός High-NA EUV εκτιμάται ότι κοστίζει 500 δισεκατομμύρια γουόν (περίπου 2,52 δισεκατομμύρια γιουάν).